WEKO3
アイテム
タリウム系トポロジカル絶縁体の薄膜作製の試行
http://hdl.handle.net/10965/00010158
http://hdl.handle.net/10965/00010158c99e5595-20ea-4eb7-8dac-65086e105044
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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| アイテムタイプ | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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| 公開日 | 2018-08-01 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | タリウム系トポロジカル絶縁体の薄膜作製の試行 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Thin-film growth of a Tl-based ternary topological insulator | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | トポロジカル絶縁体 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 薄膜作製 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | スパッタリング法 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 半導体 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | カルコゲナイド | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Topological insulator | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Thin-film growth | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Sputtering method | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Semiconductors | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Chalcogenides | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| 著者 |
瀬川, 耕司
× 瀬川, 耕司 |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | ここ数年,トポロジカル絶縁体の実験研究は非常にさかんに行われてきた。この論文では,トポロジカル絶縁体で最初に見出された三元系であるタリウム系カルコゲナイドの薄膜作製を試みたのでその第一歩について報告する。 | |||||
| 書誌情報 |
京都産業大学総合学術研究所所報 巻 13, p. 43-50, 発行日 2018-07-31 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 京都産業大学総合学術研究所 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
| 収録物識別子 | 1348-8465 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA11879037 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||